本發(fā)明屬于金屬氧化物涂層技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種低溫反應(yīng)濺射沉積納米α?Al2O3涂層的方法。將Al粉及α?Al2O3粉用粉末冶金的方法制成復(fù)合材料，切割成設(shè)備所需的尺寸后作為沉積靶材和工件基體分別安裝在射頻磁控濺射的靶工位和沉積腔室樣品臺(tái)上，排除沉積腔室殘留的水蒸汽后抽至本底真空，然后注入Ar+O2混合氣體進(jìn)行預(yù)氧化處理；調(diào)整Ar+O2混合氣中的O2分壓至15％～25％范圍，并調(diào)整工件基體溫度至550～750℃范圍，啟動(dòng)射頻磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，開(kāi)始反應(yīng)沉積得到所述納米α?Al2O3涂層。本發(fā)明所得涂層為納米晶結(jié)構(gòu)涂層，韌性好，與基體結(jié)合牢固，涂層在相對(duì)較低的溫度下具有穩(wěn)定的α相結(jié)構(gòu)。