本發(fā)明涉及一種制造機(jī)艙元件(2)的方法,該方法包括如下步驟:(A)使用光刻法在基底(24)上形成加熱電阻器陣列(20);(B)將
復(fù)合材料層(50,52)施加到步驟A所獲得的陣列(20)上;(C)將內(nèi)表層(12)施加到因此獲得的除冰組件(13)上。本發(fā)明還涉及一種包括這種元件(2)的機(jī)艙。
聲明:
“制造機(jī)艙除冰元件的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)