本發(fā)明公開了一種制備非晶/納米晶多層結(jié)構(gòu)薄膜的方法。該材料的特征是:薄膜由兩種完全不同的晶體結(jié)構(gòu)(納米晶,非晶)構(gòu)成,并呈現(xiàn)非晶層和納米晶層交替更迭的多層結(jié)構(gòu)。該工藝制備的薄膜結(jié)構(gòu)致密,界面層清晰,可以很容易通過控制不同層薄膜厚度尺寸(尺寸可以達(dá)到納米級別),控制非晶層、納米晶層的調(diào)制比例,實(shí)現(xiàn)等調(diào)制比變化,甚至是漸變調(diào)制比變化等,為研究非晶合金在微小尺寸下的剪切帶形變行為以及其尺寸效應(yīng)提供一種新的研究方法,并且為非晶合金塑韌性等力學(xué)性能的改進(jìn)提供了一種新的途徑,從而為制備力學(xué)性能可控的非晶/納米晶
復(fù)合材料提供可能。同時(shí),該方法操作簡單,成本較低,易于在工業(yè)上實(shí)現(xiàn)和推廣。
聲明:
“制備非晶/納米晶多層結(jié)構(gòu)薄膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)