本發(fā)明提供了一種繞射波成像方法、裝置和電子設備,涉及地質勘探的技術領域,包括:獲取待成像區(qū)域的傾角道集;基于傾角道集確定目標成像點的振幅數據集;結合預設雙階權函數和目標成像點的振幅數據集確定目標成像點的繞射波成像結果;基于待成像區(qū)域內所有成像點的繞射波成像結果確定待成像區(qū)域的綜合繞射波成像結果。本發(fā)明方法中,繞射波振幅對應的預設雙階權函數值大于第一預設閾值,反射波振幅對應的預設雙階權函數值小于第二預設閾值,且第一預設閾值大于第二預設閾值,因此該方法能夠有效的壓制反射波能量,使得繞射波成像更為聚焦,從而實現(xiàn)繞射波高精度成像,有效地緩解了現(xiàn)有技術中的繞射波成像方法存在的成像結果準確性低的技術問題。
聲明:
“繞射波成像方法、裝置和電子設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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