本發(fā)明公開了一種基于雙像解析的巖體結(jié)構(gòu)面產(chǎn)狀測量方法,包括:布設(shè)控制點,從左右兩個角度各拍攝一張圍巖的影像;估算兩幅影像拍攝時的內(nèi)方位元素和外方位元素;進(jìn)行誤差分析,判斷影像解析精度是否滿足要求;在左幅影像中沿每條結(jié)構(gòu)面跡線布設(shè)多個錨點;搜尋錨點在對應(yīng)右幅影像中的位置;利用共線方程求解錨點三維坐標(biāo);確定結(jié)構(gòu)面所在平面方程;根據(jù)平面方程解譯出結(jié)構(gòu)面的傾向和傾角。本發(fā)明可用于測量結(jié)構(gòu)面暴露面積非常小,僅呈跡線出露而無法直接使用地質(zhì)羅盤測量的情況,且不會受到磁場干擾,具有測量安全、準(zhǔn)確、快速的優(yōu)點。
聲明:
“基于雙像解析的巖體結(jié)構(gòu)面產(chǎn)狀測量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)