本發(fā)明提供了一種甲殼素@MXene@Ni鏈薄膜材料及其制備方法和應(yīng)用，本專利中以甲殼素,少層MXene以及Ni鏈為原料，薄膜材料包括以下質(zhì)量份數(shù)比組成：甲殼素：MXene：Ni鏈=50：(20~30)：(30~50)，通過(guò)抽濾及熱壓最終獲得了甲殼素@MXene@Ni鏈薄膜。該復(fù)合材料制備方法具有穩(wěn)定、可控、簡(jiǎn)單易操作的特點(diǎn)，且該材料具備厚度薄、電磁波屏蔽能力強(qiáng)的特點(diǎn)。因此，本發(fā)明為工業(yè)生產(chǎn)電磁波屏蔽材料的設(shè)計(jì)與合成提供了一種新型思路。