本發(fā)明公開(kāi)了一種用于高能射線探測(cè)的鉛基鹵素?zé)o機(jī)
鈣鈦礦膜的制備方法,該方法是利用組分調(diào)控得到前驅(qū)體原料,將這些前驅(qū)體原料混合均勻后分散作為多個(gè)蒸發(fā)源,每個(gè)蒸發(fā)源中的前驅(qū)體原料各元素配比比例保持不變,從而利用同源多分共蒸方法實(shí)現(xiàn)氣相轉(zhuǎn)移沉積鈣鈦礦膜的制備。本發(fā)明通過(guò)在氣相轉(zhuǎn)移沉積方法的沉積過(guò)程中補(bǔ)入適量的組分原料,同時(shí)采用同源多分共蒸的方法,可以制得適用于高能射線探測(cè)等用途的無(wú)機(jī)鈣鈦礦厚膜,該方法操作簡(jiǎn)單,制備出的鈣鈦礦厚膜厚度大、晶粒大、均勻性好且表面覆蓋好,可制得性能良好且穩(wěn)定性優(yōu)異的半導(dǎo)體探測(cè)器。
聲明:
“用于高能射線探測(cè)的鉛基鹵素鈣鈦礦膜的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)