本申請公開了一種淺表層連續(xù)非均勻介質(zhì)建模方法、裝置、電子設(shè)備及介質(zhì)。該方法可以包括:進行建模數(shù)據(jù)準備,確定所需數(shù)據(jù)以及數(shù)據(jù)格式;針對建模數(shù)據(jù)進行網(wǎng)格化處理;構(gòu)建淺表層連續(xù)非均勻介質(zhì)模型。本發(fā)明基于實際觀測數(shù)據(jù),符合實際地質(zhì)分層性的特點及淺表層介質(zhì)非均勻性特征,滿足正演模擬方程算法對模型連續(xù)性要求,適用于深度域和時間域淺表層建模。
聲明:
“淺表層連續(xù)非均勻介質(zhì)建模方法、裝置、電子設(shè)備及介質(zhì)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)