本發(fā)明涉及一種層位校正的方法及裝置,屬于地質勘測領域,具體是涉及一種對電阻率斷面進行層位校正的方法及裝置。包括:根據鉆孔電阻率測井曲線獲取探測區(qū)地層電阻率與深度信息;經過統計和分析獲得地層地電斷面類型,確定電性標志層;逐點對比電性標志層實際深度與斷面圖上深度的差異,確定各測點的補償深度;對測線上所有測點進行補償校正,完成電阻率斷面層位校正。本發(fā)明可以在獲得地層起伏和鉆孔電阻率測井曲線的基礎上,以電性標志層和地層標志層為基礎,快速準確地對層位不匹配現象進行校正,提高電阻率斷面質量和精度。
聲明:
“對電阻率斷面進行層位校正的方法及裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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