本發(fā)明涉及一種納米柱森林的加工方法,其步驟包括:1)準(zhǔn)備并清洗所選用的襯底;2)在襯底的表面上旋涂光刻膠,并對光刻膠依次進(jìn)行前烘、曝光和顯影,最后形成光刻膠圖形;3)對光刻膠圖形進(jìn)行氧等離子體干法刻蝕,在襯底上形成一層圖形化的納米點狀結(jié)構(gòu);4)用納米點狀結(jié)構(gòu)為掩模,各向異性刻蝕襯底,形成初始納米柱;5)在初始納米柱表面保形沉積薄膜;6)通過各向異性刻蝕薄膜,在初始納米柱的周圍形成側(cè)墻;7)以包裹側(cè)墻的初始納米柱為掩模,各向異性刻蝕襯底,形成納米柱;8)去除納米柱表面上的側(cè)墻殘留,得到圖形化的納米柱森林結(jié)構(gòu)。使用本發(fā)明制作的圖形化納米柱森林可廣泛應(yīng)用于新能源器件、生物醫(yī)學(xué)檢測器件、微流控器件、電子器件以及納米壓印中。