2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜及其制備方法與應(yīng)用,新能源"> 2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜及其制備方法與應(yīng)用,本發(fā)明公開一種MoS2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜的制備方法,涉及半導(dǎo)體薄膜制備技術(shù)和新能源開發(fā)的領(lǐng)域。所述制備方法,包括如下步驟:(1)反應(yīng)前驅(qū)液的制備:在溶劑中加入還原性試劑,攪拌至溶解;溶解后,依次加入硫源、鉬源、硒源,攪拌至溶解,混合均勻后,得到反應(yīng)前驅(qū)液;(2)基片襯底的前期表面處理:將基片襯底進行切割,切割后進行超聲清洗,再浸泡清洗,清洗完成后進行干燥處理;(3)溶劑熱反應(yīng):將步驟(2)中經(jīng)過前期表面處理的基片襯底,與步驟(1)中得到的反應(yīng)前驅(qū)液接觸">

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MoS2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜及其制備方法與應(yīng)用

970   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 20:15:22
本發(fā)明公開一種MoS2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜的制備方法,涉及半導(dǎo)體薄膜制備技術(shù)和新能源開發(fā)的領(lǐng)域。所述制備方法,包括如下步驟:(1)反應(yīng)前驅(qū)液的制備:在溶劑中加入還原性試劑,攪拌至溶解;溶解后,依次加入硫源、鉬源、硒源,攪拌至溶解,混合均勻后,得到反應(yīng)前驅(qū)液;(2)基片襯底的前期表面處理:將基片襯底進行切割,切割后進行超聲清洗,再浸泡清洗,清洗完成后進行干燥處理;(3)溶劑熱反應(yīng):將步驟(2)中經(jīng)過前期表面處理的基片襯底,與步驟(1)中得到的反應(yīng)前驅(qū)液接觸,進行溶劑熱反應(yīng),得到沉積有MoS2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜的基片;(4)將步驟(3)中得到的沉積有MoS2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜的基片,進行清洗、真空干燥,得到所述MoS2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜。
聲明:
“MoS2/MoSe2異質(zhì)結(jié)薄膜及其制備方法與應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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