本發(fā)明公開了一種薄膜鈮酸鋰電光調(diào)制器及制備方法,薄膜鈮酸鋰電光調(diào)制器包括從下到上布置的硅襯底、埋氧層和鈮酸鋰層,鈮酸鋰層上表面刻蝕形成薄膜鈮酸鋰光波導(dǎo);薄膜鈮酸鋰光波導(dǎo)包括馬赫曾德爾結(jié)構(gòu);在馬赫曾德爾結(jié)構(gòu)每條光波導(dǎo)臂兩側(cè)分別設(shè)置行波信號電極和行波接地電極,在行波信號電極和行波接地電極之間設(shè)置用于對光波導(dǎo)臂內(nèi)的光信號調(diào)制的電容負載型T結(jié)構(gòu)電極;馬赫曾德爾結(jié)構(gòu)每條光波導(dǎo)臂兩側(cè)和下方設(shè)置有用于降低微波信號有效折射率的鏤空隔離結(jié)構(gòu)。該種電光調(diào)制器在硅基襯底下實現(xiàn)了超低驅(qū)動電壓,超低微波損耗,超大電光帶寬的薄膜鈮酸鋰電光調(diào)制器,便于未來在光通信,光傳感,光集成等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)超高速,超低能耗的電光調(diào)制。
聲明:
“薄膜鈮酸鋰電光調(diào)制器及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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