本發(fā)明公開了一種鈮酸鋰光波導(dǎo)器件的制作方法及其器件，本發(fā)明方法在x切鈮酸鋰基片上表面和下表面制作有增透作用的介質(zhì)膜；在介質(zhì)膜上沿Y軸方向刻蝕出光波導(dǎo)掩模窗口；在掩模窗口內(nèi)的鈮酸鋰基片上表面制作光波導(dǎo)；制作調(diào)制電極；對(duì)鈮酸鋰基片的光輸入端面和光輸出端面進(jìn)行切割，在光輸入端面和光輸出端面分別制作有增透作用的介質(zhì)膜；采用本發(fā)明的方法，能顯著提高鈮酸鋰光波導(dǎo)芯片的偏振消光比，改善芯片的光學(xué)特性。