本發(fā)明公開了一種差分鈮酸鋰調(diào)制器,涉及光通信器件技術(shù)領(lǐng)域,從下往上依次包括基底層、襯底層、集成波導(dǎo)層和覆蓋層,集成波導(dǎo)層包括鈮酸鋰波導(dǎo)層和兩個(gè)間隔分布的高折射率層,高折射率層位于鈮酸鋰波導(dǎo)層和覆蓋層之間;同時(shí),調(diào)制器還包括第一電極組、兩個(gè)相對(duì)設(shè)置的第二電極組,第一電極組位于襯底層內(nèi),兩個(gè)第二電極組位于集成波導(dǎo)層上方;第一電極組從下往上依次包括直接接觸的第一金屬電極和第一導(dǎo)電層;第二電極組從下往上依次包括直接接觸的第二導(dǎo)電層和第二金屬電極。本發(fā)明提供的差分鈮酸鋰調(diào)制器,具有抗干擾能力強(qiáng)、結(jié)構(gòu)尺寸小、調(diào)節(jié)效率高等優(yōu)點(diǎn)。
聲明:
“差分鈮酸鋰調(diào)制器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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