本申請公開的一種基于離子注入的黑化單晶壓電復(fù)合薄膜及其制備方法，利用離子注入技術(shù)，先將剝離離子注入鈮酸鋰或鉭酸鋰晶圓內(nèi)，然后將還原性離子注入到鈮酸鋰或鉭酸鋰晶圓的薄膜層內(nèi)，經(jīng)過鍵合、熱處理步驟后，剝離離子注入使得鍵合體在分離層斷開分離，還原性離子注入會占據(jù)薄膜層中原本更高價態(tài)離子的格點，增加鈮酸鋰或鉭酸鋰晶體中的氧空位濃度，使單晶薄膜內(nèi)的載流子濃度提升，進而提高單晶薄膜的電導(dǎo)率，降低電阻率，隨后對單晶薄膜進行退火修復(fù)，能夠有效降低復(fù)合薄膜的熱釋電效應(yīng)。