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負(fù)載Ni-N與Co-N雙活性位點(diǎn)摻雜空心碳球催化劑、制備方法及其應(yīng)用

706   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 23:16:38
一種負(fù)載Ni?N與Co?N雙活性位點(diǎn)摻雜空心碳球催化劑、制備方法及其應(yīng)用,所制備催化劑首先采用“內(nèi)部刻蝕”工藝,位于MOF空腔內(nèi)部的聚吡咯在熱解過(guò)程中產(chǎn)生的氨氣及氰基自由基自碳球內(nèi)部對(duì)其進(jìn)行刻蝕。Ni?N與Co?N雙活性位點(diǎn)摻雜空心碳球的比表面積具有巨大提升,能夠有效提升鋰硫電池中多硫化物的轉(zhuǎn)化速度。同時(shí)作為修飾隔膜材料能夠極大程度上的限制多硫化物的“穿梭效應(yīng)”,將多硫化物限制在正極區(qū)域,保護(hù)鋰負(fù)極。另一方面,MOF衍生的空心碳球作為活性位點(diǎn)的載體能夠因其吸附能力將多硫化物在催化位點(diǎn)進(jìn)行富集,提升反應(yīng)動(dòng)力學(xué),具備優(yōu)異的導(dǎo)電性。將該催化劑作為隔膜修飾材料應(yīng)用于鋰硫電池上,能夠有效提升鋰硫電池的比容量及其循環(huán)穩(wěn)定性。
聲明:
“負(fù)載Ni-N與Co-N雙活性位點(diǎn)摻雜空心碳球催化劑、制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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