一種二維非線 性光學(xué)超晶格雙穩(wěn)器件及其 制法用具有較大克爾效應(yīng)系 數(shù)的晶體,內(nèi)部刻有體光柵結(jié) 構(gòu),其光柵常數(shù)為 入。 晶體可以在鉭酸鋰,磷酸二氫 鉀,鈮酸鋰,鈦酸鋇,鉭酸鈉 以及摻鐵、鈷以上晶體中選 擇,還可以在ADP、鈦酸鋰等中選擇,制造二維非線性光學(xué) 超晶格雙穩(wěn)態(tài)器件的方法可用深層同步X光刻技術(shù)、離子束蝕 刻等方法,對(duì)于具有光折變性質(zhì)的晶體又可用常規(guī)體全息光柵 寫入法及熱固定技術(shù),本發(fā)明可用于光開關(guān)器件。
聲明:
“二維非線性光學(xué)超晶格光學(xué)雙穩(wěn)器件及其制法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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