本發(fā)明公開了一種多孔單層1T?MoS?2納米片的制備方法,步驟如下:(1)采用水熱法制備2H晶型的MoS2納米片;(2)采用超聲輔助鋰離子插層法對多層2H晶型的MoS2納米片進行剝離,得到多孔單層1T?MoS2納米片。本發(fā)明的1T?MoS?2納米片可直接用于電催化制氫,相對于其它結構MoS2,其電催化制氫性能得到快速提高,多孔的結構為該催化提供了更多的邊緣,因此可以暴露更多的活性位點,這將有益于電催化制氫;單層的結構使得該催化劑擁有更大的比表面積,可以提供更多的反應活性位點。相對于多層的結構,單層結構降低了層與層之間的電子傳輸阻力,有利于電子的傳輸和轉移,進而加快電催化制氫速率。
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“多孔單層1T MoS2納米片的制備方法及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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