本文公開(kāi)了一種處理含有至少一種汞化合物或物質(zhì)的氣流的方法,所述方法包括:在微粒物質(zhì)收集裝置之前將組合物應(yīng)用到所述氣流中,其中所述組合物包含具有以下化學(xué)式(SiO2)x(OH)yMzSaF的化合物,其中(i)SiO2為任選組分;(ii)M包括以下金屬或準(zhǔn)金屬陽(yáng)離子的至少一種:硼、鎂、鋁、鈣、鈦、釩、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、鋯、鉬、鈀、銀、鎘、錫、鉑、金以及鉍;(iii)S包括選自以下的至少一種的基于硫的物質(zhì):硫化物鹽、二硫代氨基甲酸鹽、基于聚合物的二硫代氨基甲酸鹽以及多硫化物鹽;(iii)F為任選組分并且如果存在,包括處于0.01100%表面積覆蓋下的以下的至少一種:官能化的有機(jī)
硅烷、含硫有機(jī)硅烷、含胺有機(jī)硅烷以及含烷基的有機(jī)硅烷;(iv)如果SiO2存在,y/x的摩爾比等于約0.01至約0.5并且x/z的摩爾比等于約0.1至約300,并且如果SiO2不存在,X為0并且Z為1;并且(v)a/z的摩爾比為約0.5至約5。
聲明:
“氣流處理方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)