本發(fā)明公開了一種微凹輥間隙雕刻工藝,屬于鋰電子隔膜生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。其包括以下步驟:將微凹輥的輥面劃分為雕刻區(qū)和空白區(qū),對(duì)雕刻區(qū)進(jìn)行雕刻。本發(fā)明摒棄了現(xiàn)有的微凹輥網(wǎng)紋設(shè)計(jì),提出以間隙雕刻的方式,根據(jù)所需涂布的隔膜進(jìn)行設(shè)計(jì)網(wǎng)紋輥,針對(duì)性的解決特制化涂布的難點(diǎn),讓隔膜涂布不再受微凹輥滿幅雕刻的網(wǎng)紋限制,其可涂布的涂布膜結(jié)構(gòu)更加多元化。
聲明:
“微凹輥間隙雕刻工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)