本發(fā)明屬于光學(xué)材料制備領(lǐng)域,具體公開了一種高折射率光學(xué)材料及其制備方法,所述高折射率光學(xué)材料由以下重量份的原料制備而成:二氧化硅50份、三氧化二硼20?40份、五氧化二鈮20?40份、二氧化鈦15?30份、三氧化二釓15?30份、二氧化鋯10?20份、氧化鑭10?20份、氧化鍶5?10份、二氧化鋯5?10份、氧化鋰5?10份、分散劑2?4份;本發(fā)明公開的高折射率光學(xué)材料不僅折射率高,且具有高透過率的特點,適合用于各類精密光學(xué)儀器。
聲明:
“高折射率光學(xué)材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)