本發(fā)明實(shí)施例公開了地質(zhì)繪圖方法、裝置和電子設(shè)備,該方法包括:獲取目標(biāo)區(qū)域的地質(zhì)數(shù)據(jù);從所述地質(zhì)數(shù)據(jù)中獲取第一地質(zhì)單元數(shù)據(jù),根據(jù)所述第一地質(zhì)單元數(shù)據(jù)在主屏上顯示第一地質(zhì)圖;從所述地質(zhì)數(shù)據(jù)中獲取第二地質(zhì)單元數(shù)據(jù),根據(jù)所述第二地質(zhì)單元數(shù)據(jù)在輔助屏上顯示第二地質(zhì)圖,以通過所述第二地質(zhì)圖輔助所述主屏對地質(zhì)圖形的編輯;在所述主屏上繪制所述目標(biāo)區(qū)域的地質(zhì)圖形。本發(fā)明能夠在地質(zhì)圖件的瀏覽及編輯過程中獲得更大可視范圍,更多的地質(zhì)信息,提升地質(zhì)研究的綜合性和科學(xué)性。
聲明:
“地質(zhì)繪圖方法、裝置和電子設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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