本發(fā)明公開了一種印刷大面積發(fā)光
電化學(xué)池及其制備方法,包括依次自下而上的銦錫氧化物導(dǎo)電玻璃、聚乙烯二氧噻吩層、發(fā)光活性層、金屬電極。其制備方法包括以下步驟:將發(fā)光材料與電解質(zhì)聚氧化乙烯,乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯,三氟甲磺酸鋰混合溶解在溶劑中,配制成墨水;在覆蓋了聚乙烯二氧噻吩膜的氧化銦錫基底上,通過麥勒棒將墨水印刷成膜,并進(jìn)行退火處理;將基底冷卻至室溫后,轉(zhuǎn)移到金屬氣相沉積系統(tǒng)的真空腔室中,蒸鍍鋁電極。通過后處理工藝參數(shù)調(diào)控墨水的二次流動(dòng),調(diào)控印刷濕膜厚度實(shí)現(xiàn)大面積發(fā)光薄膜的印刷,調(diào)控鹽濃度以保證大面積發(fā)光電化學(xué)池良好的載流子遷移率。得到的發(fā)光電化學(xué)池綜合性能優(yōu)異,發(fā)光均勻、器件效率高。
聲明:
“印刷大面積發(fā)光電化學(xué)池及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)