一種片上電可調(diào)高品質(zhì)薄膜微光學(xué)器件的制備方法,包括在薄膜表面鍍金屬層、飛秒激光選擇性燒蝕金屬膜、化學(xué)機(jī)械拋光、表面鍍介質(zhì)膜封裝以及電極制備等步驟。本發(fā)明方法制備的片上微光學(xué)器件具有極高的表面光潔度,極低的光學(xué)損耗,并且能通過電極進(jìn)行電光調(diào)制或電熱調(diào)制。該方法適用于各種片上薄膜(包含但不限于鈮酸鋰單晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金剛石薄膜等)上制備高品質(zhì)的電可調(diào)微光學(xué)結(jié)構(gòu)(包含但不限于微環(huán)腔、光波導(dǎo)及其耦合器件)。
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