本發(fā)明涉及一種印染廢水處理裝置及系統(tǒng),其中,一種印染廢水處理裝置,包括基座,設置在基座上部的封閉箱體,在封閉箱體的上部一側設置有進水管,以及在封閉箱體的上部和下部分別設置有上封閉區(qū)和下封閉區(qū);吸附組件,設置在封閉箱體的內部左側,且位于上封閉區(qū)和下封閉區(qū)之間,MBR膜組件,設置在封閉箱體的內部,位于吸附組件的右側,且位于上封閉區(qū)和下封閉區(qū)之間;在所述下封閉區(qū)且位于吸附組件的下部設置有下曝氣裝置,與下曝氣裝置連接的氣流存儲區(qū),與氣流存儲區(qū)的氣流管連接的逆流閥,逆流閥與曝氣管連接,所述曝氣管設置在封閉箱體的下部,且位于下導軌的左側以及左封閉區(qū)的右側,本發(fā)明還提供了一種系統(tǒng),配合上述的裝置。
聲明:
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