本實(shí)用新型公開(kāi)了處理冶煉廢水的系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:調(diào)節(jié)池,有冶煉廢水入口和廢水出口;中和裝置,有廢水入口和中和后液出口;一次氧化裝置,有中和后液入口和一次氧化后液出口;
濃密機(jī),有一次氧化后液入口、上清液出口和第一底渣出口;
電化學(xué)處理裝置,有上清液入口、第二底渣出口和含有第一絮凝團(tuán)的后液出口;二次氧化裝置,有含有第一絮凝團(tuán)的后液入口以及二次氧化后液出口;絮凝裝置,有二次氧化后液入口、絮凝劑入口和含有第二絮凝團(tuán)的后液出口;澄清裝置,有含有第二絮凝團(tuán)的后液入口、第三底渣出口和澄清廢水出口;中間水槽,有澄清廢水入口和中間水槽廢水出口;過(guò)濾裝置,有中間水槽廢水入口、第四底渣出口和過(guò)濾液出口。
聲明:
“處理冶煉廢水的系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)