本實(shí)用新型公開(kāi)了一種半導(dǎo)體
電鍍廢水凈化處理裝置,包括外殼,外殼內(nèi)部通過(guò)第二擋板和第三擋板分為第一腔體、反應(yīng)腔和沉淀腔,第一腔體位于最上方,所述第一腔體中間通過(guò)第一擋板將內(nèi)部分為過(guò)濾腔和置換腔,所述置換腔位于過(guò)濾腔左側(cè),所述過(guò)濾腔側(cè)壁連接有進(jìn)水口,所述過(guò)濾腔內(nèi)部安裝有兩根過(guò)濾芯,所述過(guò)濾腔與置換腔之間通過(guò)第一連接管連通,本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置過(guò)濾腔,在廢水處理前先把廢水中的雜質(zhì)除去,保證后續(xù)步驟中,沒(méi)有雜質(zhì)搗亂,提高了整體效率,通過(guò)設(shè)置噴頭,將儲(chǔ)液箱中的堿性液體均勻排出,便于沉淀,大大減少了沉淀時(shí)間,通過(guò)設(shè)置側(cè)門(mén),可以方便清理沉淀池,節(jié)省人力。
聲明:
“半導(dǎo)體電鍍廢水凈化處理裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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