本發(fā)明公開(kāi)了一種利用無(wú)定形磷酸鈷Co?Pi減緩光電催化廢水處理過(guò)程中腐蝕的光陽(yáng)極及制備方法與應(yīng)用。該方法包括:黑暗條件下,將Bi金屬膜沉積在摻氟氧化錫襯底的表面上;滴加乙酰丙酮氧釩的溶液,退火,將Bi金屬膜轉(zhuǎn)化為BiVO
4基底膜,浸泡在含有螯合劑的電解質(zhì)溶液中,施加恒定電位,得到電極膜,電沉積磷酸鈷得到光陽(yáng)極。該方法通過(guò)簡(jiǎn)單的光輔助電沉積合成電極薄膜材料,利用Co?Pi中鈷元素自身價(jià)態(tài)的循環(huán)過(guò)程,在光電催化降解水體有機(jī)微污染物的過(guò)程中完成空穴的快速捕獲與釋放,抑制內(nèi)部BiVO
4/Cu
2O光電極的自氧化腐蝕。該電極薄膜易于回收循環(huán)使用,經(jīng)過(guò)降解實(shí)驗(yàn)后材料的晶體結(jié)構(gòu)沒(méi)有發(fā)生改變,是環(huán)境友好型材料。
聲明:
“利用無(wú)定形磷酸鈷Co-Pi減緩光電催化廢水處理過(guò)程中腐蝕的光陽(yáng)極及制備方法與應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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