一種紫外線流體輻射系統(tǒng),包含一個腔體和紫外線輻射裝置,所述腔體分為進水緩沖區(qū)、紫外輻射區(qū)和出水緩沖區(qū),紫外輻射區(qū)介于進水緩沖區(qū)和出水緩沖區(qū)之間,紫外輻射區(qū)是一個高出進水緩沖區(qū)和出水緩沖區(qū)底部的平面,所述進水緩沖區(qū)前端設置進水口,出水緩沖區(qū)后端設置出水口,使用時待處理流體由進水口流入進水緩沖區(qū),流經(jīng)紫外輻射區(qū)輻射處理后,流入出水緩沖區(qū)經(jīng)出水口流出,還可以包含多個紫外輻射區(qū),前一個紫外輻射區(qū)的出水緩沖區(qū)作為后一個紫外輻射區(qū)進水緩沖區(qū),經(jīng)過多個紫外輻射區(qū)處理后的流體處理效果更好,可應用在多種流體處理領域中,特別是低紫外透射率的水體,如市政污水、印染廢水、醫(yī)療廢水、養(yǎng)殖用水、工業(yè)廢水等。
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“紫外線流體輻射系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。
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編輯：管理員
來源：中冶有色技術網(wǎng)
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2025年03月25日 ~ 27日 
