本發(fā)明公開(kāi)了一種銅離子選擇分離膜及其制備方法,屬于膜材料制備科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域。具體是結(jié)合離子印跡技術(shù)和水熱合成法制備離子印跡介孔二氧化硅微球,隨后將其與PVDF共混,通過(guò)相轉(zhuǎn)化成膜方法將二氧化硅微球固定到聚偏氟乙烯(PVDF)膜孔上,制得對(duì)銅離子高吸附量、強(qiáng)選擇性的PVDF/SiO2復(fù)合膜。本發(fā)明充分發(fā)揮了銅離子印跡介孔二氧化硅的選擇性吸附特性以及PVDF膜的多孔、便于使用再生等優(yōu)勢(shì),既實(shí)現(xiàn)對(duì)銅離子的選擇性吸附,也方便了操作使用,防止SiO2在使用過(guò)程中聚集團(tuán)聚。本發(fā)明制備的膜可廣泛用于重金屬離子廢水處理方面。
聲明:
“銅離子選擇分離膜及其制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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