本發(fā)明是有關(guān)一種寬溫低鉻酐鍍鉻添加劑及其 制備,其特征在于由氟化
稀土和氟硅酸鈉混合組成, 其制備工藝是按一定量的氧化稀土(鐠釹富積物)進(jìn) 行溶解、沉淀、過(guò)濾洗滌、反應(yīng)、研磨、再過(guò)濾洗滌、烘 干,按比例1.5~2.3∶1加入氟硅酸鈉經(jīng)混合均勻即 成。本發(fā)明電流密度范圍為5~30A/dm2,電流效 率高為22%以上,溫度范圍為17~55℃,鍍層一次 合格率達(dá)95%以上。降低廢水中排鉻含量60~ 70%,節(jié)水、節(jié)電。
聲明:
“寬溫低鉻酐鍍鉻添加劑” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)