本發(fā)明提供了一種不含氨氮的酸性蝕刻液,包括不含氨氮的氧化劑和不含氨氮的酸性蝕刻液添加劑;所述氧化劑與酸性蝕刻液添加劑的重量比為(0.8~1.0):(2~2.5);所述氧化劑,按重量百分數包括以下組分:氯酸鈉12%?20%,氯化鈉12%?18%,尿素0.5%?1.5%,水60.5%?75.5%;所述酸性蝕刻液添加劑,按重量百分數包括以下組分:氯化氫16%?25%,氯化鈉2%?5%,硫脲0.5%?1.5%,水68.5?81.5%。這種不含氨氮的酸性蝕刻液,從源頭上避免了氨氮的使用,使得PCB生產企業(yè)無需對生產廢水進行氨氮水性等處理,而且本酸性蝕刻液在添加劑中加入了蝕刻速率提升組分,保證蝕刻的生產速度,使蝕刻效果優(yōu)于采用氨氮組分的酸性蝕刻液。
聲明:
“不含氨氮的酸性蝕刻液” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)