本申請?zhí)峁┮环N離子束清洗設(shè)備,包括:離子室,用于提供真空環(huán)境;陰極離子源,用于提供電子,與離子室連通,陽極裝置,設(shè)置于離子室內(nèi),陽極裝置與陰極離子源構(gòu)成電場區(qū)域;治具組件,設(shè)置于離子室內(nèi)并位于電場區(qū)域中,用于承載工件,治具組件包括連接件、第一磁鐵和第二磁鐵,第一磁鐵和第二磁鐵相對設(shè)置且均套設(shè)于連接件,以形成磁場區(qū)域,工件套設(shè)于連接件并位于第一磁鐵和第二磁鐵之間,且設(shè)置于磁場區(qū)域內(nèi),連接件與一外部電源的負極電連接,用于牽引電場區(qū)域內(nèi)的正離子至磁場區(qū)域內(nèi)的工件的表面,以清洗工件。該離子束清洗設(shè)備,代替?zhèn)鹘y(tǒng)的化學(xué)去膜層方案,避免化學(xué)廢液的產(chǎn)生及排放,降低廢水處理成本,節(jié)省成本,同時保護環(huán)境。
聲明:
“離子束清洗設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)