本發(fā)明公開(kāi)了一種新型等離子體氣化爐及其運(yùn)行工藝，包括：設(shè)置在爐體的頂部的進(jìn)料口，設(shè)置在進(jìn)料口的下方的均料器；可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在均料器的下方爐排；從進(jìn)料口進(jìn)入爐體內(nèi)部的被破碎配伍的危險(xiǎn)廢棄物在氣化空間內(nèi)自上而下形成干燥熱解層、氧化層及渣層；爐排設(shè)置在底座上；設(shè)置在爐體底部的布風(fēng)板；設(shè)置在布風(fēng)板的下方的混合腔室，混合腔室的上方通過(guò)送風(fēng)管與設(shè)置在布風(fēng)板上的多個(gè)風(fēng)帽中的一部分連通；與混合腔室連通的電弧等離子體發(fā)生器，并將其產(chǎn)生的高溫高活化的等離子體活性基團(tuán)送入混合腔室，與混合腔室內(nèi)經(jīng)過(guò)預(yù)熱的高壓風(fēng)混合后輸送至風(fēng)帽。借此，通過(guò)在氣化爐內(nèi)部渣層及氧化層注入高溫高效的等離子體活性基團(tuán)，提升氣化效果。