本發(fā)明實施例公開了一種掩模板的清洗系統(tǒng)和清洗方法。該掩模板的清洗系統(tǒng)包括:掩模板支撐設(shè)備和清洗設(shè)備,所述掩模板支撐設(shè)備用于支撐掩模板;所述清洗設(shè)備用于向所述掩模板的表面吹超聲波氣體,所述超聲波氣體為經(jīng)超聲波處理的氣體;所述超聲波氣體的流速大于預(yù)設(shè)速度,以在所述掩模板表面形成空化泡,清洗所述掩模板表面的污漬。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明實施例在確保對掩模板的清洗效果的基礎(chǔ)上,減少了藥液用量、減少了產(chǎn)生的廢液量以及降低了危險性。
聲明:
“掩模板的清洗系統(tǒng)和清洗方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)