本實(shí)用新型公開了一種金屬硅還原爐內(nèi)廢氣真空置換裝置,包括底座,所述底座上表面的左側(cè)設(shè)有還原爐,所述還原爐右側(cè)面的下部連通有抽氣管的一端,所述抽氣管的另一端與
真空泵的抽氣口相連通,所述真空泵右側(cè)面的出氣口連通有出氣管的一端,所述出氣管的另一端與箱體相連通,所述箱體內(nèi)壁上固定連接有隔板,所述隔板的下方設(shè)有第一噴淋機(jī)構(gòu),所述隔板的上方設(shè)有第二噴淋機(jī)構(gòu),所述箱體的右側(cè)并位于底座的上表面固定連接有堿液供給箱,通過(guò)設(shè)有第一噴淋機(jī)構(gòu)、第二噴淋機(jī)構(gòu)和堿液供給箱的設(shè)置,可對(duì)產(chǎn)生的廢氣進(jìn)行兩次噴淋,使廢氣的處理效果更佳,避免由于對(duì)廢氣的處理不充分給環(huán)境造成了危害。
聲明:
“一種金屬硅還原爐內(nèi)廢氣真空置換裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)