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基于上轉(zhuǎn)換納米粒子的潛指紋顯現(xiàn)及化學(xué)殘留物檢測方法

670   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 06:44:49
本發(fā)明公開了一種基于上轉(zhuǎn)換納米粒子的潛指紋顯現(xiàn)及化學(xué)殘留物檢測方法,包括六方結(jié)構(gòu)的上轉(zhuǎn)換納米粒子NaYF4:Yb3+/Tm3+制備,制備潛指紋樣品,配位化合物的形成,潛指紋的顯現(xiàn)等步驟,本發(fā)明采用上轉(zhuǎn)換納米粒子,對指紋干擾小,顯色速度更快,背景干擾小,不破壞潛指紋的潛在信息,不影響潛指紋的DNA鑒定,合成、檢測過程無任何毒副作用,尼古丁顯像熒光變化明顯,靈敏度高,檢測設(shè)備便攜,整個(gè)檢測所用到的設(shè)備都是便攜可移動(dòng)的,方便攜帶,進(jìn)行現(xiàn)場實(shí)地檢測。
聲明:
“基于上轉(zhuǎn)換納米粒子的潛指紋顯現(xiàn)及化學(xué)殘留物檢測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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