一種計(jì)算機(jī)實(shí)施的方法包括:用實(shí)地光學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)獲得至少一個(gè)當(dāng)前光譜,將所述當(dāng)前光譜與多個(gè)不同的參考光譜進(jìn)行比較,和基于所述比較來(lái)確定對(duì)于具有經(jīng)受拋光的最外層的基板來(lái)說(shuō)是否已到達(dá)拋光終點(diǎn)。所述當(dāng)前光譜是從基板反射的光的光譜,所述基板具有經(jīng)受拋光的最外層和至少一個(gè)下面層。所述多個(gè)參考光譜代表從基板反射的光的光譜,所述基板具有厚度相同的最外層和厚度不同的下面層。
聲明:
“在使用多個(gè)光譜的化學(xué)機(jī)械拋光中的終點(diǎn)檢測(cè)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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