本文所述的實施方式總體涉及一種基板處理腔室,并且更具體地涉及一種用于監(jiān)測所述基板處理腔室的清潔處理的設(shè)備和方法。處理器從設(shè)置在基板處理腔室中的一個或多個傳感器接收一個或多個溫度讀數(shù)。所述處理器從所述一個或多個溫度讀數(shù)確定每個溫度讀數(shù)的峰值,這指示放熱膜清潔反應(yīng)結(jié)束。在確定每個溫度讀數(shù)已經(jīng)達到峰值時,所述工藝發(fā)出通知以停止所述清潔工藝。
聲明:
“在等離子體增強化學(xué)氣相沉積腔室清潔期間用于終點檢測的溫度傳感器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)