本發(fā)明涉及具有最小填充錯(cuò)誤的樣品觀察窗的分析測(cè)試條,尤其涉及一種基于
電化學(xué)的分析測(cè)試條,包括電絕緣基底、設(shè)置在所述電絕緣基底上方的圖案化導(dǎo)電層、設(shè)置在所述圖案化導(dǎo)電層上方的圖案化絕緣層、設(shè)置在所述圖案化導(dǎo)電層上方的酶試劑層、設(shè)置在所述酶試劑層上方的圖案化粘合劑層和設(shè)置在所述酶試劑層上方的頂層。另外,所述測(cè)試條具有由所述電絕緣基底、所述圖案化導(dǎo)電層、所述圖案化絕緣層、所述酶試劑層、所述圖案化粘合劑層和所述頂層限定的樣品接納室。所述測(cè)試條的樣品接納室具有工作部分和非工作部分,并且所述頂層具有第一部分和不透明的第二部分。所述第一部分構(gòu)造成使得使用者能夠透過(guò)所述頂層的所述第一部分觀察所述樣品接納室的所述工作部分,而所述不透明的第二部分構(gòu)造成使用者無(wú)法觀察到所述樣品接納室的所述非工作部分。
聲明:
“具有最小填充錯(cuò)誤的樣品觀察窗的分析測(cè)試條” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)