本發(fā)明公開了一種化學(xué)氣相沉積清洗終點監(jiān)測方法,包括:將三氟化氮氣體通入CVD腔室進行清洗;將三氟化氮氣體在對CVD腔室清洗過程中產(chǎn)生的光束進行頻譜分析;檢測所述光束中是否存在四氟化硅光譜;若是,則繼續(xù)監(jiān)測所述光束的頻譜;若否,則發(fā)出清洗終點指令,停止對CVD腔室的清洗。本發(fā)明還提供了一種化學(xué)氣相沉積清洗終點監(jiān)測系統(tǒng),包括:清洗裝置,用于將三氟化氮氣體通入CVD腔室進行清洗;光譜分析裝置,用于將三氟化氮氣體在對CVD腔室清洗過程中產(chǎn)生的光束進行頻譜分析;監(jiān)測控制裝置,用于檢測所述光束中是否存在四氟化硅光譜。本發(fā)明提供的技術(shù)方案具有節(jié)省清洗時間,減少資源浪費和提高沉積效率的優(yōu)點。
聲明:
“化學(xué)氣相沉積清洗終點監(jiān)測方法及其系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)