一種x射線熒光光譜儀(52);和用于x射線熒光(XRF)光譜儀(52)的樣本支架(2),其中,樣本支架(2)包括:提供正表面(6)的導(dǎo)電合成金剛石電極(4),化學(xué)物類能夠被從包括化學(xué)物類的溶液(48)中電沉積到正表面(6)上;設(shè)置在導(dǎo)電合成金剛石電極(4)的背面上的歐姆接觸(8);以及連接至歐姆接觸(8)的電連接器(10),并且其中x射線熒光光譜儀(52)包括:被配置為容納樣本支架(2)的XRF樣本臺(58);被配置為在樣本支架(2)被安裝到XRF樣本臺(58)上時將x射線激勵射束施加至電沉積在導(dǎo)電合成金剛石電極(4)上的化學(xué)物類的x射線源(54);被配置為在樣本支架(2)被安裝到XRF樣本臺(58)時接收電沉積在導(dǎo)電合成金剛石材料的正表面(6)上的化學(xué)物類發(fā)射的x射線的x射線探測器(60);以及被配置為基于x射線探測器接收到的x射線生成x射線熒光光譜數(shù)據(jù)的處理器(62)。這種系統(tǒng)允許同時并且就地進行溶出伏安法測量以及X射線熒光測量。
聲明:
“電化學(xué)沉積和x射線熒光光譜測定” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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