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光學元件亞表面損傷的化學刻蝕測量方法、輔助實驗裝置及試驗方法

669 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-19 06:49:09

本發(fā)明涉及光學元件亞表面損傷的化學刻蝕測量方法、輔助實驗裝置及試驗方法，該方法通過測量刻蝕過程中樣品的粗糙度，繪制粗糙度輪廓隨刻蝕時間的演化關系曲線，來得到亞表面損傷深度值。利用化學刻蝕輔助裝置，實現對光學元件的刻蝕、清洗和烘干過程，并在清洗過程加入超聲震蕩儀輔助清洗，在烘干過程加入吹風機與電機輔助烘干。本發(fā)明能夠快速、準確地測量出亞表面損傷深度，且設計了一套刻蝕輔助裝置，裝置操作簡單、效率高、危險性低，而且能有效減少刻蝕過程中產生的沉積物，大大降低了其對刻蝕及測量的影響。

聲明：

“光學元件亞表面損傷的化學刻蝕測量方法、輔助實驗裝置及試驗方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)