本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光化學(xué)POCT測(cè)試卡,包括:上殼體,設(shè)有貫穿其內(nèi)外的樣本通道;下殼體,與上殼體活動(dòng)連接,設(shè)有反應(yīng)層;擴(kuò)散層,至少部分設(shè)置于樣本通道,至少部分與反應(yīng)層正對(duì)設(shè)置,且與反應(yīng)層之間具有隔離區(qū);彈性組件,設(shè)于上殼體和下殼體之間,用于形成所述隔離區(qū);于樣本在擴(kuò)散層充分?jǐn)U散后,所述擴(kuò)散層和反應(yīng)層越過(guò)隔離區(qū)相接觸均勻反應(yīng)。本實(shí)用新型樣本充分?jǐn)U散后再與反應(yīng)層接觸反應(yīng),反應(yīng)結(jié)果更準(zhǔn)確;測(cè)試操作簡(jiǎn)單易行,測(cè)試成本降低;結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單穩(wěn)固。
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“光化學(xué)POCT測(cè)試卡” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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