本發(fā)明屬于分析化學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種鈾濃度的分析方法。該方法包括：(1)測(cè)量空白溶液在連續(xù)能量X射線照射下的透射譜，得到不同能量下鈾溶液的入射光強(qiáng)度I0；(2)配制鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液并分別用步驟(1)所述的X射線照射，測(cè)量透射譜，得到各個(gè)鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液在LIII吸收邊兩側(cè)不同能量下的透射光強(qiáng)度I；(3)計(jì)算出鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液在LIII吸收邊兩側(cè)不同能量下的透射率T；(4)做出鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液LIII吸收邊兩側(cè)lnln(T)～ln(E)的線性關(guān)系曲線并得到LIII吸收邊處低能側(cè)透射率T1和高能側(cè)透射率T2；(5)求出鈾的質(zhì)量吸收系數(shù)突躍值Δμ；(6)將待測(cè)樣品的ln(T1/T2)代入公式(4)，得到待測(cè)樣品的濃度。本發(fā)明提供的方法操作簡(jiǎn)單、準(zhǔn)確度高、操作成本低且能有效避免雜質(zhì)干擾。