一種化學(xué)機(jī)械拋光裝置及化學(xué)機(jī)械拋光的方法,其中,化學(xué)機(jī)械拋光裝置包括:基座;固定于基座表面的研磨墊,研磨墊內(nèi)具有檢測(cè)窗,檢測(cè)窗表面與研磨墊表面齊平,檢測(cè)窗為透光材料;位于基座內(nèi)的光頭,光頭位于檢測(cè)窗下方,且光頭與檢測(cè)窗之間為空腔;固定于基座內(nèi)的位置調(diào)節(jié)裝置,位置調(diào)節(jié)裝置與光頭連接;位于研磨墊上方的檢測(cè)裝置,檢測(cè)裝置位于研磨墊上方,檢測(cè)裝置到研磨墊中心的水平距離、與第一檢測(cè)裝置到研磨墊中心的水平距離一致;分別與位置調(diào)節(jié)裝置和第一檢測(cè)裝置連接的控制器,控制器根據(jù)檢測(cè)裝置檢測(cè)的研磨墊減薄的厚度,控制光頭下降相同距離。所述化學(xué)機(jī)械拋光裝置光學(xué)終點(diǎn)檢測(cè)精確。
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