由第一絕緣基片層、第二基片層和居間絕緣間隔層形成電化學(xué)試條。所述絕緣間隔層中的開(kāi)口限定了測(cè)試池,該測(cè)試池在一側(cè)與所述第一基片的內(nèi)表面接觸,并且在另一側(cè)與第二基片的內(nèi)表面接觸。測(cè)試池的尺寸由暴露的基片的面積和所述間隔層的厚度確定。適用于要被檢測(cè)的分析物的工作電極和對(duì)電極在所述測(cè)試池內(nèi)的位置被設(shè)置所述第一絕緣基片上。所述工作電極和對(duì)電極與導(dǎo)電引線相連,該導(dǎo)電引線允許連接所述電極到測(cè)定分析物的儀器。所述第二基片至少在面向所述工作電極和對(duì)電極的區(qū)域是導(dǎo)電的。該第二基片的導(dǎo)電表面不需要與所述儀器功能相連。當(dāng)在工作電極與對(duì)電極之間施加電勢(shì)差時(shí),由于在所述第二基片上導(dǎo)電表面的存在,相關(guān)的擴(kuò)散長(zhǎng)度不依賴于工作電極和對(duì)電極之間的距離,而是依賴于所述第一和第二基片之間的距離(即依賴于所述間隔層的厚度)。這意味著不需要減小工作電極和對(duì)電極的間距就能實(shí)現(xiàn)較短的測(cè)量時(shí)間。