本發(fā)明提供了一種可提高拋光性能的化學(xué)機(jī)械拋光方法?,F(xiàn)有技術(shù)中的第一階段拋光依據(jù)所檢測(cè)到的拋光終點(diǎn)終止拋光,從而使整個(gè)拋光過程難以控制而出現(xiàn)過拋凹陷及腐蝕或被拋光層殘留等拋光性能不佳的問題。本發(fā)明的可提高拋光性能的化學(xué)機(jī)械拋光方法包括第一階段和第二階段拋光,該第一階段拋光的壓力大于第二階段拋光,該方法先統(tǒng)計(jì)得出第一階段和第二階段拋光的總時(shí)間;然后將第一階段拋光的時(shí)間設(shè)定為該總時(shí)間的60%至80%,且依照所設(shè)定的時(shí)間進(jìn)行第一階段拋光;最后進(jìn)行第二階段拋光且檢測(cè)其拋光終點(diǎn),在檢測(cè)到拋光終點(diǎn)時(shí)停止第二階段拋光。本發(fā)明可大大提高拋光過程的可控性,從而避免出現(xiàn)過拋凹陷及腐蝕或被拋光層殘留等拋光性能不佳的現(xiàn)象。
聲明:
“可提高拋光性能的化學(xué)機(jī)械拋光方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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