拋光頭包括承載頭和多個布置在承載頭上的壓力單元。至少兩個壓力單元位于相對于承載頭的中軸線的同一圓周線上。本發(fā)明還涉及拋光頭,化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)和拋光襯底的方法。
聲明:
“拋光頭,化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)和拋光襯底的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)