本發(fā)明的實(shí)施例涉及化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)和拋光襯底的方法。公開(kāi)了一種化學(xué)機(jī)械拋光的方法,包括:將漿料供應(yīng)到拋光墊上;將晶圓壓向所述拋光墊上,其中,第一壓電層設(shè)置在壓力單元和所述晶圓之間;檢測(cè)所述第一壓電層產(chǎn)生的第一電壓;根據(jù)檢測(cè)到的所述第一壓電層產(chǎn)生的所述第一電壓,使用所述壓力單元,將所述晶圓壓在所述拋光墊上;以及使用所述拋光墊拋光所述晶圓。
聲明:
“化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)和拋光襯底的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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